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美国英特尔、韩国三星电子及台积电(TSMC)三家公司宣布,为实现基于450mm晶圆的LSI生产线,三方将进行合作(英文发布资料)。计划2012年开始试产,将促使相关厂商就基础设施建设展开合作。
保持晶圆直径每十年增大一次,促进业内合作
英特尔、三星电子与台积电“一致认为向450mm晶圆过渡跟向300mm晶圆过渡时一样,可以提高向用户提供的价值”(英特尔技术与生产部门副总裁兼技术制造工序总经理鲍伯•布鲁克)。三家公司将针对450mm晶圆试产线所需要的材料、制造装置及其标准化,与装置及材料厂商加强合作。
业内向200mm晶圆过渡发生在1991年,向300mm晶圆过渡从2001年开始的,因此如果按照三家公司目标,于2012年开始利用450mm晶圆进行试产的话,便保持了晶圆直径每十年左右增大一次的趋势。不过,关于2012年这一目标时间,三家公司保留了一定余地,表示“还需要继续评估”。
三星电子与台积电正式表明450mm化意向
对于晶圆的450mm化,此前大型装置厂商及材料厂商均持否定态度(参阅本站报道1),而业内领先的三家LSI厂商展开合作之后,形势有可能出现变化。
三家公司中,英特尔以前就已积极表明了450mm化态度(参阅本站报道2)。而三星电子与台积电被列为有可能推进450mm化的LSI厂商,此次两公司首次正式表明推进450mm化的意向。另外,三家公司还将继续就美国半导体协会SEMATECH的成员企业——SEMATECH旗下的ISMI (International SEMATECH Manufacturing Initiative)所推进的450mm计划进行合作。